《现代薄膜材料与技术》由薄膜制备技术、薄膜检测技术和典型薄膜材料及其应用3部分构成，系统介绍了现代薄膜技术中涉及的真空的获得和测量方法、薄膜制备技术中重要的物理和化学方法、薄膜材料常用的结构分析和性能测试方法，全面阐述了典型薄膜材料的制备、结构、性能和应用。此外，《现代薄膜材料与技术》还结合笔者的研究工作，设置了磁控溅射镀膜技术和非晶碳膜的结构和性能表征方法两个专题内容。
　　《现代薄膜材料与技术》可作为普通高等工科院校的材料及相关专业的薄膜材料与技术课程的教学用书，也可供从事薄膜材料生产和开发的工程技术人员参考。

第1章 薄膜制备的真空技术基础
1．1 真空的基本知识
1．2 真空的获得
1．3 真空的测量
复习思考题
参考文献

第2章 薄膜的物理气相沉积
2．1 真空蒸发镀膜
2．2 溅射镀膜
2．3 其他物理气相沉积技术
2．4 分子束外延镀膜技术
专题1 磁控溅射镀膜技术
复习思考题
参考文献

第3章 薄膜制备的化学方法
3．1 薄膜的化学和电化学转化
3．2 薄膜的化学气相沉积
复习思考题
参考文献

第4章 薄膜材料的表征与评价
4．1 薄膜厚度的测量与监控
4．2 表面成分和组织结构分析
4．3 物理和化学性能测试
4．4 力学性能测试
专题2 非晶碳膜的结构和性能表征方法
复习思考题
参考文献

第5章 功能薄膜材料及其应用
5．1 光电薄膜
5．2 磁性薄膜
复习思考题
参考文献

第6章 超硬薄膜材料及其应用
6．1 金刚石膜
6．2 非晶碳膜
6．3 氮化碳（CNx）薄膜
复习思考题
参考文献